第327章 EUV光刻机 (2/2)

注1：取出nxe3400b之后，可在商城购买该光刻机的所有资料，包括图纸和专利技术。

注2：nxe3400b产能一月24000片圆晶，根据尺寸的大小，分割后将获得不同数量的芯片（12寸400颗）。

注3：该光刻机体积不小，默念取出时，请不要在狭小的空间内。

“牛啊！最小分辨率居然达到了5nm级别，3400b，足以吊打全世界了！”

光刻机的发展史，实际上就是‘光源改进’+‘工艺创新推动光刻机更新换代’。

自从拿到5之后，苏扬就查过有关芯片的信息，但没太深入。

前阵子从杨庆涛那边得知，世界第一超算‘泰坦’的运算速度，连1亿亿次都达不到，他立刻意识到了芯片制作工艺，恐怕与前世没办法相比。

一查之下，果然是如此。

现在r那边，去年才刚刚公布45nm的芯片进入量产阶段。

而苏扬手里所用的noy5，芯片是双核的，也属于45nm工艺，不过不是r的，而是高通的。

现在的r和前世一样，主要的业务领域在计算机方面，移动方面的半导体巨头，还是以高通和三星为最。

而对于芯片来说，不管是计算机的，还是移动手机的，纳米工艺越小越好。

所谓的纳米工艺，对准的是集成电路与晶体管。

通常来说，晶体管的尺寸越小，意味着栅极越小，代表一个同样尺寸芯片上的晶体管越多。

苏扬记得，像前世的r的酷睿i7，制作工艺的尺寸缩小到了14n上有上百个晶体管。

仅一个小拇指盖大小的芯片上，就可以承载数十亿颗晶体管。

这也意味着，在提高计算机运算速度的同时，能耗保持在原本的高度，甚至变得更低。